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里程碑!通快第200台EUV光刻机光源已发货

时间:2022-02-15 12:16:10 来源: OFweek激光网

据维科网·激光获悉,德国通快集团在不久前完成了第200台EUV光刻机光源的发货。

里程碑!通快第200台EUV光刻机光源已发货

图片来源:通快

EUV光刻机需求旺盛:通快、ASML业绩均增长

通快集团披露的财务数据显示,2021财年(2020年7月1日-2021年6月30日),通快在EUV业务领域实现了5.3亿欧元的销售额,占总销售额的13.5%。通快预计,在2022财年EUV业务销售额将大幅增加到6亿欧元。目前,通快EUV业务领域已提供超过1500个工作岗位。

而全球唯一的EUV光刻机供应商不久前也披露了最新的财报。2021年ASML全年净销售额达186.11亿欧元,同比增长33.1%;净利润为58.83亿欧元,同比增长65.5%。其中,EUV光刻系统便贡献了63亿欧元的收入,较2020年增加了18亿欧元(增长40%)。

里程碑!通快第200台EUV光刻机光源已发货

历年ASML EUV光刻机出货量

维科网·激光 制图

近年来,ASML销售的EUV光刻系统数量持续增长。从2015年第一台EUV光刻机出货,到2021年,ASML已成功交付42套EUV光刻系统。ASML表示,随着芯片制造工艺愈加先进,预计未来逻辑芯片、DRAM都将采用EUV技术制造,未来EUV光刻机的需求仍持续增长。在现有条件下,预计2022年将产出55台EUV光刻系统,EUV系统的收入也将增长25%。

三强联手 攻克EUV光刻最大挑战

EUV光刻是光刻机发展的第五代技术,也是目前最先进的技术。前四代光刻机使用都属于深紫外光(准分子激光器产生UV激光束),但在摩尔定律的推动下,半导体产业对于芯片的需求已经发展到5nm,甚至是3nm,浸入式光刻面临更为严峻的镜头孔径和材料挑战。可将最小工艺节点推进至5nm、3nm的第五代 EUV光刻机成了半导体行业不可或缺的重磅武器。

EUV光刻最大的挑战之一是如何产生波长极短的13.5nm的光,这需要将等离子体加热到接近22万摄氏度(几乎是太阳平均表面温度的40倍)。为实现这一点,荷兰ASML(光刻系统制造商)、德国Zeiss(镜头制造商)和德国Trumpf(光源制造商)紧密合作,通过多年努力最终研制出每秒可加工100多个晶圆的独一无二的CO2激光系统,攻克了这一难题。


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