您的位置:首页 >新能源 >

角逐中国光刻机市场

时间:2022-12-13 20:17:00 来源:

近日,根据国家知识产权局官网的消息,华为技术有限公司于今年11月公布了一项与光刻技术相关的专利,引起半导体产业一片沸腾。这项专利主要是用于光刻机技术改造升级,使光刻机的良品率变得更高,从而提高生产效率。但值得注意的是,这项专利早在2016年就已递交申请,可能实际对光刻机产业影响有限。尽管如此,华为光刻机专利的公布昭示着国内光刻机仍有一丝曙光。

实际上,自进入2022年以来国内光刻机频频传来好消息。

今年3月,北京国望光学光刻曝光系统研发及批量生产基地项目,获得了新进展,其中已有三家国产相关企业中标。也就是说,随着中标企业的公示,国产芯片制造前道工序的投影光刻机曝光光学系统产品,正式进入批量生产阶段。

5月,中国科学院上海光学精密机械研究所宣布已完成了多项技术突破:完成了国家重大专项核心光学元器件 N41 钕玻璃用包边玻璃研制工作、实现米级光栅大口径离轴反射曝光技术突破性进展以及大尺寸 DKDP 长籽晶快速生长技术新进展。

10月,上海微电子宣布已经实现14纳米先进工艺规模量产,并且攻克90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等。虽然这款光刻机制程只有90纳米,但经过三次曝光最高可以达到22纳米的水平,并且其主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFi芯片、射频芯片、各类数模混合电路等,已覆盖全世界范围内70%的主流芯片。

在强需求的大背景下,整个光刻机产业都在加快步伐,并初见成效。

01

国产攻坚“0-1”

在光刻机的产业链中,如今国内在双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面均有企业相继研发成功。

在双工件台方面,华卓精科打破了ASML在光刻机工件台上的技术垄断,成为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司。

在光源方面,中国科益虹源公司自主研发设计生产的首台高能准分子激光器,以高质量和低成本的优势,填补中国在准分子激光技术领域的空白,其已完成了6kHZ、60w主流ArF光刻机光源制造。同时,科益虹源也是上海微电子待交付的28纳米光刻机的光源制造商。

在光学镜头方面,尽管与卡尔蔡司、尼康等公司还有非常大的差距,但奥普光学提供的镜头已经可以做到90纳米。

在光刻机整机生产(中游)方面,上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商,其90纳米的光刻机已获得突破,正在攻关的28纳米 DUV光刻机仍待交付。与此同时,上海微电子还在进行14纳米光刻机的研制与调试。

角逐中国光刻机市场

光刻机制造的一些关键核心领域实现国产化,对掌握核心技术的重要性不言而喻。现下已有多家科研院所进入光刻机组装期。中国光刻机的制造力量在不断加强,与此同时外部也有一些力量在源源不断的注入。

02

外部支持

佳能欲给中国提供光刻机

今年10月,光刻机供应商佳能宣布,将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂,目标将当前产能提高一倍,总投资额超过500亿日元(约3.45亿美元),计划在2023年动工,2025年春季开始运营。

据悉,在2021年的全球光刻机市场,荷兰ASML独占了79.4%的市场份额,尼康与佳能分别占据10.4%和10.2%的市场份额。此刻的中国市场对于佳能来说则是重夺市场的好时机。

目前佳能在日本拥有两家半导体设备工厂,此次新建的光刻机设备工厂则是佳能近21年来首次扩建。另外,佳能还将考虑生产能够以低成本制造尖端精细电路的纳米压印技术(NIL)。

纳米压印技术通过接触式压印完成图形的转移,相当于光学曝光技术中的曝光和显影工艺过程,然后利用刻蚀传递工艺将结构转移到其他材料上,可以将耗电量压低至EUV技术的10%,并让设备投资降低至EUV设备的40% 。重要的是这项技术,由佳能与大日本印刷、铠侠共同开发,并不需要依赖美国、欧洲等的产业链。

纳米压印技术微影设备现阶段支持15纳米制程,正力争进一步推进制程微缩,初期将导入生产DRAM、PC用CPU等,未来还可望应用在手机AP等极需高阶先进制程的逻辑IC生产。不过以最乐观进程预估,佳能可望交出能与ASML的EUV一较高下的晶圆厂量产设备也要到2025年。

尼康扩大布局

今年8月份日本尼康就宣布决定,未来将会加大在中国光刻机市场的投资和布局,与中国芯片企业加大合作,计划在2026年之前,把光刻机的出货规模提升3倍以上。

尼康此前的大部分客户都是英特尔等美企,营收比例高达80%以上,美光1β技术以及美国本土光刻技术的出现,给尼康的营收也带来了更多的不确定性。如今正打算把这份依赖降低到50%以下。此时中国市场就成了关键,在尼康眼中,或许中国市场才更有前景。

和ASML相比,尼康还处于较大的劣势,其核心能力集中在最低端的UV(i-line)光刻机领域以及次高端的DUV领域。不过,根据尼康透露,它所要布局的NSR-S635E ArF 浸入式光刻机与ASML的EUV光刻机不同,使用DUV光源就可以加工5~7纳米的芯片,每小时可以制造275片晶圆,并且不使用美国技术。

ASML争夺市场

2021年ASML总计向中国出售了57台光刻机,中国也成为ASML的第一大客户,中国给ASML贡献了290多亿美元收入,超过了韩国和中国台湾的大约250亿美元。未来中国相关的需求只会越来越大,而ASML也希望看见市场客户加大半导体发展力度,这样对采购ASML的光刻机就有了更多的需求。

前不久,ASML就宣布扩产EUV与DUV乃至于下世代EUV设备计划,其年产能要提高到90台EUV和600台DUV光刻机。近日,由上海建工四建集团承建的临港重装备产业区F16-01地块项目,就举行了鼎泰匠芯洁净室交付ASML光刻机搬入仪式。

业界对ASML向中国的出口一直都褒贬不一,或许这是它的诚意展现,或许是它的倾销动作,但是可以确定的是,ASML试图在这个空窗期加大出货,争夺市场,而中国是一片它难以放弃的沃土。

目前全球有能力制造先进光刻机的,只有ASML、日本的尼康和佳能这三家。同时,在对外出口上,这三家也处于绝对的垄断地位。如今三家企业都难以放弃中国光刻机的巨大市场。

03

结语

光刻机制造巨头ASML说过:“中国不太可能独立造出顶级光刻机,但永远别说永远。”

在光刻机研发的这条道路上,中国已经实现了从“0”到“1”的突破,目前要解决的问题,是在“1”后面加几个“0”的问题。

中国与国外成熟技术相比差距依旧很大,不论是从理论到实验室再到商用,还是从生产再到上下游适配再到商业适配都是需要时间、精力以及金钱去解决的难题。但光刻机的关键部件仍在努力向自主化一步步靠近,在全面达到之前,还需要给予国产技术多一些耐心与支持。

原文标题:角逐中国光刻机市场


郑重声明:文章仅代表原作者观点,不代表本站立场;如有侵权、违规,可直接反馈本站,我们将会作修改或删除处理。