远超EUV光刻机！这家美国公司造出了0.7nm芯片，仅2个硅原子宽度！

时间：2022-09-26 16:16:27 来源： OFweek光通讯网

近日，芯片圈又有了技术大突破！美国一家公司Zyvex宣布其使用电子束光刻技术制造了768皮米，也就是0．7nm的芯片。

0．7nm芯片是什么概念？这代表了目前世界上最先进的芯片光刻技术出炉了！可以说当EUV光刻机还在为制造2nm、1nm芯片发愁的时候，这家美国公司已在另一个先进光刻方向上取得质的突破。

据悉，Zyvex是一家致力于生产原子级精密制造工具的纳米技术公司。这个产品是在DARPA（国防高级研究计划局）、陆军研究办公室、能源部先进制造办公室和德克萨斯大学达拉斯分校的Reza Moheimani教授的支持下完成的，他最近被国际自动控制联合会授予工业成就奖，“以支持单原子规模的量子硅设备制造的控制发展”。

远超EUV，ZyvexLitho1成当前制造精度最高的光刻系统

相关资料显示，Zyvex推出的光刻系统名为ZyvexLitho1，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，制造出了0．7nm线宽的芯片，这个精度是远高于EUV光刻系统的，相当于2个硅原子的宽度，是当前制造精度最高的光刻系统。

ZyvexLitho1光刻机制造出来的芯片主要是用于量子计算机，可以制造出高精度的固态量子器件，以及纳米器件及材料，对量子计算机来说精度非常重要。

据Zyvex技术团队透露，ZyvexLitho1是一个完整的扫描隧穿光刻系统，具有任何其他商业扫描隧穿光刻系统不具备的功能：能够实现无失真成像、自适应电流反馈回路、自动晶格对准、数字矢量光刻、自动化脚本和内置计量。而嵌入ZyvexLitho1光刻系统的是ZyVector。这个20位数字控制系统具有低噪音、低延迟的特点，使用户能够为固态量子设备和其他纳米设备和材料制作原子级的精确图案。

远超EUV光刻机！这家美国公司造出了0.7nm芯片，仅2个硅原子宽度！

同时，完整的ZyvexLitho1系统还包括一个为制造量子器件而配置的ScientaOmicron超高真空STM（扫描隧穿显微镜）。ScientaOmicron的SPM产品经理Andreas Bettac博士表示：“在这里，我们将最新的超高真空系统设计和ScientaOmicron的成熟的SPM与Zyvex的STM光刻专用的高精度STM控制器相结合。我期待与Zyvex继续进行富有成效的合作。”

2015年费曼奖得主、硅量子计算公司的首席执行官、新南威尔士大学量子计算和通信技术中心主任Michelle Simmons教授表示，“建立一个可扩展的量子计算机有许多挑战。我们坚信，要实现量子计算的全部潜力，需要高精度的制造。我们对ZyvexLitho1感到兴奋，这是第一个提供原子级精密图案的商业化工具。”

STM光刻技术的发明者、2014年费曼奖得主、伊利诺伊大学教授Joe Lyding表示：“到目前为止，Zyvex实验室的技术是最先进的，也是这种原子级精确光刻技术的唯一商业化实现。”

目前，Zyvex公司表示已经可以接受其他人的订单，机器可以在6个月内出货。

总的来说，虽然该光刻机的精度可以轻松超过EUV光刻机，但是，这种技术的缺点也很明显，那就是产量很低，无法大规模制造芯片，只适合制作那些小批量的高精度芯片或者器件，指望它们取代EUV光刻机也不现实。

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